1.1機械拋光

通過切割（gē）機械拋光，拋光後表麵塑性變（biàn）形凸光滑表麵拋光方法去除，一般用油石、羊毛輪、砂紙、以手工操作為（wéi）主，特殊部位如轉盤表麵，可以（yǐ）使（shǐ）用輔助工具，如表麵質量要求高的（de）可采用超（chāo）精密拋光。超精密拋光是一（yī）種特殊的磨削工具。在含有磨料的拋光液中，將其壓在工件的加工表麵上進行高速旋轉。使用這種技術，ra0.008μm的表麵（miàn）粗（cū）糙度可以達到，這是最高的各種拋光方法。這種（zhǒng）方法常用於（yú）光學透鏡模（mó）具。

1.2化學拋光

化學拋光是使（shǐ）材（cái）料溶於化學介質表麵（miàn）的凹部多於凹部，從而獲得光滑表麵。該方法的主（zhǔ）要優（yōu）點是不需要複雜的設備，能對複雜工件進行拋光，同時能同時（shí）拋（pāo）光大（dà）量工件，效率高。化學拋光的核心問（wèn）題是拋光液的（de）製備。化學拋光（guāng）獲得的表麵（miàn）粗糙度通常為10μm。

1.3電解拋光

電解（jiě）拋光的基（jī）本原理與化學拋（pāo）光（guāng）相同，即表麵選擇性溶解材料上的小凸部光滑。與化學拋光相比，陰極反應的效果可以消除，效果更好。電化學拋（pāo）光過程分為兩個步（bù）驟：

（1）宏（hóng）觀整平的溶解產物擴散到電（diàn）解液中，材料表麵粗糙，Ra為1μm。

（2）微光整平陽極極化，表麵亮度增加，Ra＜1米。

1.4超聲波拋光

工件（jiàn）置於磨料懸（xuán）浮液中，置於超聲（shēng）場中，磨削材料通（tōng）過超聲振動在工件表麵進行磨削和拋光。超聲波加工具（jù）有較小的宏觀力（lì），不會引起工（gōng）件的變形，但製造和安裝模具很困難。超聲波處理可以與化學（xué）或電化學（xué）方法相結（jié）合。在溶液腐蝕和電解（jiě）的基礎（chǔ）上，采用超聲波振（zhèn）動攪拌液將工件與工件表麵分離，表麵附近的腐蝕或電解（jiě）質均勻。超聲波在液體中的空化效應還可以（yǐ）抑製腐（fǔ）蝕過程，促進（jìn）表麵發光。

1.5流體拋光

流體拋光是利用高速液體及其攜帶的磨料（liào）顆粒在工件表（biǎo）麵拋光工件的（de）目的。常用的方法有磨料射流加工、液體射流加工、流體動態磨削等。流體動力（lì）磨削是由液壓驅（qū）動，使磨料流體介（jiè）質高速流過工件表麵。介質主要由特（tè）殊的化合物（聚合物類物質）在低（dī）壓力下流動並與磨料（liào）混合而成，磨料可由碳（tàn）化矽粉末製成。

1.6磁研磨拋光

磁力研磨是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，磨削工件。該方法處理效率高（gāo），質量好，工藝條件易於控製，工作條件良好。用合適的磨料，表麵粗糙度可達到Ra0.1μm。

塑料模具加工中的拋光與其他（tā）行業所要求的表麵拋光有很大（dà）的（de）不同。嚴格地說，模具的拋光應該稱（chēng）為鏡麵加工。它不（bú）僅對拋（pāo）光本身有很高的要求，而（ér）且對（duì）表麵平整度、平滑度（dù）和（hé）幾何（hé）精度也有很高的要求。表麵拋（pāo）光（guāng）通常隻需要明亮的表（biǎo）麵。鏡麵加工（gōng）的標準分為四個層（céng）次：AO = ra0.008 M，M = ra0.016 A1，A3，A4 = ra0.063 ra0.032 M，M，電解拋光的幾何精度，拋光液是精確控製零件，化學拋光（guāng），超（chāo）聲波拋光非常困難，磁研磨（mó）拋光等方法的表麵（miàn）質量達不的要（yào）求，所（suǒ）以精密模具加工或在鏡子的機械拋（pāo）光。

機械拋光的（de）2.1個基本程序

要（yào）獲（huò）得（dé）高質量的拋光效（xiào）果，最重要的是要有高質量的拋光工具和配件，如油石、砂紙（zhǐ）和金剛石研磨（mó）膏。拋光方案的選擇（zé）取（qǔ）決於預加工後的表麵條（tiáo）件，如機械加（jiā）工、電火花加工、磨削加工等。機械油（yóu）料的一般過程